Elephantech

4 atoms · 跨 2 天 · 首见 2026-04-27 · 最近 2026-06-18

三色: 🟦 fact 4 · 🟥 take 0 · stance ▲0/▼0/◆1

来源: X 4

时态: fresh:4

标签: 好信源:4 · 好数字:1

事实 (fact) (4)

• 2026-04-27 · 技術要素
  独自開発した15nmクラスの銅ナノ粒子とインクジェット印刷装置を組み合わせ、高アスペクト比ビアの内壁にCuシード層を形成
  tags: 好数字·好信源 · → daily
  value: qty=15nm · date=2026-04-27
• 2026-06-18 · 发布了新制法，有助于半导体基板的微细化
  半導体サブストレートの微細化に貢献する新製法を発表しました。セミアディティブプロセス（SAP）を改良し、シードを表面とビア内で別形成することで微細化を実現する、非常に賢い製法です。
  tags: 好信源 · → daily
• 2026-04-27 · 開発対象
  エレファンテック、半導体3D集積向け高アスペクト比ビア シード形成ソリューションDeepVia™ Siliconを開発
  tags: 好信源 · → daily
  value: date=2026-04-27
• 2026-04-27 · 提供機能
  PVDシードを補完しカバレッジを補う
  tags: 好信源 · → daily
  value: date=2026-04-27

时间轴 (近 20)

• 2026-06-18 · fact · 发布了新制法，有助于半导体基板的微细化 · → daily
• 2026-04-27 · fact · 開発対象 · → daily
• 2026-04-27 · fact · 技術要素 · → daily
• 2026-04-27 · fact · 提供機能 · → daily

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